सिलिका जेल हा एक प्रकारचा अत्यंत सक्रिय अधिशोषण पदार्थ आहे.
हा एक अस्फटिक पदार्थ आहे आणि त्याचे रासायनिक सूत्र mSiO2.nH2O आहे. तो चीनी रासायनिक मानक HG/T2765-2005 पूर्ण करतो. हा FDA द्वारे मंजूर केलेला एक आर्द्रताशोषक कच्चा माल आहे, जो अन्न आणि औषधांच्या थेट संपर्कात येऊ शकतो. सिलिका जेलमध्ये तीव्र आर्द्रताशोषक क्षमता आणि मजबूत शोषण क्षमता असते, त्यामुळे सिलिका जेल आर्द्रताशोषक पाण्यात पूर्णपणे बुडवला तरी तो मऊ होत नाही किंवा द्रवरूप होत नाही. तो बिनविषारी, चवहीन, क्षरणरहित आणि प्रदूषणरहित असतो, त्यामुळे तो कोणत्याही वस्तूच्या थेट संपर्कात येऊ शकतो. सिलिका जेलच्या उत्पादनासाठी आवश्यक असलेले कच्चे साहित्य खालीलप्रमाणे आहेत: सोडियम सिलिकेट (पॉसीन, वॉटर ग्लास), सल्फ्यूरिक ऍसिड.
प्रथम, अल्कली आणि आम्ल अगोदर तयार केले जातात, आणि नंतर घन सोडियम सिलिकेट उच्च तापमानावर वितळवून गाळले जाते, ज्यामुळे विशिष्ट सांद्रतेचा द्रव तयार होतो, आणि नंतर सल्फ्यूरिक आम्ल विशिष्ट सांद्रतेच्या द्रवात तयार केले जाते, सल्फ्यूरिक आम्लाची सांद्रता 20% असते.
दुसरे म्हणजे, दुसरी पायरी म्हणजे गोंद बनवणे (जेल ग्रॅन्युलेशन). ही पायरी सर्वात महत्त्वाची आहे. विशिष्ट परिस्थितीत, पूर्व-नियंत्रित बबल लाय आणि सल्फ्यूरिक ऍसिड द्रावणापासून एक विद्राव्य जेल द्रावण तयार केले जाते, जे योग्य सांद्रता गाठल्यावर जेलच्या कणांमध्ये रूपांतरित होते. कणांचा आकार आणि स्वरूप वापरकर्त्याच्या गरजा आणि उत्पादन क्षमतेनुसार पूर्णपणे निश्चित केले जाऊ शकते. जेल ग्रॅन्युलेशनची सामान्य पद्धत एअर ग्रॅन्युलेशन आहे आणि या प्रक्रियेत वापरले जाणारे आम्ल-आम्लारी गुणोत्तर, सांद्रता, तापमान आणि जेल ग्रॅन्युलेशनचा कालावधी हे विशिष्ट तांत्रिक मापदंड आहेत.
तिसरे, एजिंग जेलला एजिंगसाठी ठराविक वेळ, तापमान आणि पीएच मूल्याच्या प्रक्रियेतून जावे लागते, ज्यामुळे जेलचा सांगाडा मजबूत होतो. एजिंग प्रक्रियेदरम्यान कणांमधील गोंदाच्या संघननामुळे Si-O-Si बंध तयार होतात, ज्यामुळे सांगाड्याची ताकद वाढते, कण एकमेकांच्या जवळ येतात, जाळीदार रचनेतील जागा कमी होते आणि त्यातील पाणी बाहेर काढले जाते.
पिक्लिंग, वॉशिंग, वॉशिंग ग्लू ही देखील प्रक्रियेतील एक अत्यंत महत्त्वाची पायरी आहे, कारण दाणेदार जेलमुळे तयार झालेला Na2SO4 धुवून टाकला जातो. प्रक्रियेसाठी आवश्यक असलेल्या मर्यादेत प्रत्येक ॲनायन नियंत्रित केला जातो. असे म्हणता येईल की, तयार झालेल्या सिलिका जेलच्या छिद्रांची वैशिष्ट्ये मोठ्या प्रमाणात रबर वॉशिंग प्रक्रियेच्या एजिंगवर अवलंबून असतात आणि या प्रक्रियेच्या एजिंगची पातळी पिक्लिंग, वॉशिंग आणि रबर वॉशिंग प्रक्रियेतील कार्यांवर अवलंबून असते.
पाचवे, वाळवणे: तयार केलेले हायड्रोजेल (धुतल्यानंतर) वाळवण्याच्या खोलीत, विशिष्ट परिस्थितीत जेलमधील पाण्याचे प्रमाण आवश्यक मर्यादेपर्यंत कमी केले जाते. वाळवण्याचे तापमान जितके जास्त असेल, तितका प्राथमिक कणांच्या एकत्रीकरणाचा दर जास्त असतो आणि छिद्र मोठे होते.
सहा, चाळणी, बॉल सिलेक्शन मशीनमध्ये सिलिकॉन वाळवल्यानंतर, वेगवेगळ्या छिद्रांच्या चाळणीतून विशिष्ट कणांच्या आकारानुसार चाळले जाईल आणि त्याच वेळी तुटलेले सिलिका जेल देखील चाळून वेगळे केले जाईल.
सात, गोंद निवडणे: हेटेरोक्रोमॅटिक बॉलमध्ये असलेल्या सिलिका जेलमधील अशुद्धी वेगळ्या काढल्या जातात आणि नंतर पॅकेजिंगच्या आवश्यकतेनुसार कंपोझिट पेपर वापरून सील केले जाते. वरील पायऱ्यांनंतर, सिलिकॉन उत्पादन तयार होते.
पोस्ट करण्याची वेळ: १४ नोव्हेंबर २०२३